美質疑頂尖光刻機流入中國 ASML強烈否認

【新唐人北京時間2026年06月20日訊】芯片設備製造商阿斯麥(ASML)週五表示,公司從未向中國運送極紫外(EUV)光刻機。此前有報道稱,美國官員擔心該公司最先進的工具之一可能已流入中國。

彭博新聞社報道稱,美國商務部長盧特尼克(Howard Lutnick)曾提出擔憂,認為阿斯麥的極紫外光刻機可能已流入中國,違反了美國主導的出口限制。

對此,阿斯麥在聲明中強烈反駁:「阿斯麥從未向中國運送過任何一台EUV光刻機,也從未向中國運送過專門設計用於極紫外光刻機的任何組件、模塊或設備。」公司強調,其「一直根據出口管制的任何新變化來調整其業務,以遵守任何新規則」。

據悉,阿斯麥最先進的極紫外系統體型大約相當於一輛校車,重達180噸。

針對此番風波,荷蘭外交部在給路透社的聲明中力挺阿斯麥,表示在半導體設備出口方面,荷蘭根據《歐盟兩用物項條例》及額外的國家措施,執行明確的規則和管制清單,所有相關設備和技術都需要獲得許可證,且官方執行非常嚴格。

華盛頓方面的焦慮由來已久。今年4月,美國提出了一項法案,要求盟友與本國的出口管制保持一致,以限制中國製造先進半導體的能力,該立法中明確點名了阿斯麥製造的設備。

而路透社曾於去年12月報道稱,中國科學家已經研製出了一台極紫外光刻機的原型機,這個研發團推的骨幹成員包括一直由前阿斯麥工程師組成的團隊。

報道說,這些成熟技術人員的加入,極大地加速了中國本土光刻機技術的迭代。此前,中國只能製造較落後的深紫外光刻機,而最先進的、用於製造3nm/5nm芯片的極紫外光刻機被美國和荷蘭聯合全面封鎖。

《新聞直擊》製作組

(責任編輯:劉明)

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