【新唐人2009年9月25日讯】高雄县正修科技大学艺术中心，邀请来自智利的女性版画艺术家－PAMELA HEVIA(芭梅拉‧埃米亚) 布面版画个展，展出主题“巨大的伤痛”， PAMELA使用的布面版画创作，此一创作方式在台湾鲜少作品发表，吸引不少人到场观赏。本展览共展出二十三组平面及装置作品，展出时间即日起至11月29日止。
来自智利的女性版画艺术家－PAMELA HEVIA(芭梅拉‧埃米亚) 以布面版画创作为主，起初因个人版画研究上的需要，后来延续成为芭梅拉个人独特的创作风格。
正修科技大学校长龚瑞璋：“融入创作里面，让我们感受出来，这种人性不可侵犯的一面，让我们对这种情况的关怀。”
艺术中心展览组组长表示，从布料、床单、枕头套等选材，因为人穿它、使用它又与人产生关系，从作品中或许还感觉到保留了人的体温。
民众沈明芬：“她的创作让我们收到一些讯息，她有透过她的一些经历还有她的想法，跟她的生命去体验一些事情，然后把它展现在创作上。
芭梅拉历经两年筹备的新作，以遭受暴力的儿童做为创作主题，个人独特风格的绘画语言，跨越国境激荡出内心的共鸣，希望大高雄的民众一同来分享。
新唐人亚太电视 李涓榕 叶子棻 台湾高雄采访报导
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