光罩檢驗 電子顯微鏡出列

Facebook

【新唐人2012年11月22日訊】(中央社記者鍾榮峰台北22日電)對半導體光罩基材檢驗,測試設備大廠愛德萬測試(Advantest)開發掃描式電子顯微鏡系統。

愛德萬測試表示,光罩製程不容許出現任何重大缺陷,因為這不僅會降低良率,也將連帶影響製程週期時間。

針對光罩缺陷檢驗,愛德萬測試開發掃描式電子顯微鏡系統,結合全自動影像擷取技術,用多視角量測掃描式電子顯微鏡檢測光罩缺陷,提供光束傾斜功能,以傾斜角度進行掃描。

愛德萬測試表示,檢驗光罩缺陷,需具備逐一分類缺陷的功能,依缺陷類別判斷適當修復方式,才能在既定製程週期時間內,達成良率目標。

在光罩缺陷檢驗產品特性上,愛德萬測試表示,掃描式電子顯微鏡系統應具備高空間解析度,提供傾斜掃描;高穩定性、全自動影像擷取;以及與光罩檢驗系統相容等功能。

相關文章