【新唐人北京時間2025年07月22日訊】美中科技戰持續，近期中共媒體不停渲染半導體設備–光刻機，有所謂「重大突破」，但曾經擔任紫光前台籍幹部的業內專家薛宗智接受大紀元時報採訪指出，中國業界盛行謊言，直指光刻機良率品質，要追上ASML，少說還要20年。

美中科技角力下，各國管制光刻機出口中國，近期陸媒卻高調宣傳，成功製作出13.5奈米的極紫外光技術，宣揚「國產EUV光刻機重大突破」，但業內人士，直接反駁。

新創公司創辦人薛宗智：「全世界只有艾斯摩爾做得出來，原因很簡單，就是這個專業在人家手上，EUV是所有設備裡面，因為它只用在3奈米5奈米，太難了。 它要做到荷蘭ASML（的程度）至少還要再20年。」

曾任台積電採購經理、前中國紫光集團高階主管的的薛宗智指出，EUV光刻機，涉及複雜光學原理、數萬種模組模型，現行僅荷蘭ASML，掌握了關鍵數據，並與台積電、英特爾的大廠合作不斷優化製程，換言之，中企的「重大突破」多數是假大空。

薛宗智：「那你想想看我們這些客人，會去買你中國的EUV嗎？答案是不會。它（中企）即便是去應徵了，這個美商應材離職的高管，那個品質還是不一樣。」

陸企中芯國際宣稱製程達7奈米，微博上瘋傳中芯5奈米良率，衝到60%至70%，薛宗智踢爆，中國半導體行業，到處是謊言。

薛宗智：「那當時的7奈米其實都是假的，因為我們知道它怎麼做的，那良率非常差，然後那個壽命非常短。所以你只要看到它會發新聞的都是假的，因為中國（中共）的方式，喜歡敲鑼打鼓，說它有多厲害。所以我每次人來問我說真的假的？我說你只要在新聞上看到都是假的。」

中國紫光集團，2015年曾來台高調要併購台積電，但公司2021破產，薛宗智日前表示，中共體制下的半導體公司，高層貪腐嚴重，盛行浮誇剽竊，金玉其外敗絮其中，他決定離開紫光，自行創立公司，強調完全不做中國市場生意。

新唐人亞太電視綜合報導