【新唐人2013年11月28日訊】因應業界對於的奈米製程檢測需求，測試設備大廠愛德萬測試(Advantest)推出多功能整合量測掃描式電子顯微鏡系統。預計相關新品將在明年6月上市。

據中央社報導，愛德萬測試表示，電子顯微鏡新品在功能上，擁有圖樣缺陷檢測能力，可支援業界將面臨的1X奈米製程。

電子顯微鏡新品除了可以應用在標準半導體微影光罩檢測上，也可以為下一代微影基板，如EUV光罩、NIL母模等，提供所需的量測功能。

這一新品的專利運算技術和多重偵測器配置設定，對於即時3D觀察量測與識別量測可帶來極大的方便，比如，針對圖樣寬度、高度與側邊壁面角度的量測。

愛德萬測試認為，半導體產業在短期內將進入1X奈米製程量產階段，業界對於超小尺寸元件高穩定性、高精準度圖樣缺陷檢測能力的需求，將大幅提高。